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做半导体净化车间的要求
日期:2025/5/8 | 浏览次数:28

半导体行业作为现代科技产业的核心支柱,其前景在技术创新、市场需求增长及政策支持的共同推动下展现出了强劲的增长潜力。而半导体技术是指半导体加工的各种技术,包括晶圆的生长技术、薄膜沉积、光刻、蚀刻、掺杂技术和工艺整合等技术。这些工艺的制造都少不了对环境的多维度严苛要求,而半导体净化车间正是保障其中芯片制造质量的核心设施。


从洁净等级来说,半导体净化车间的一般区域(如封装、测试)洁净度通常需达到ISO 5级(百级),即每立方米空气中≥0.1微米颗粒物数量不超过3520个,而半导体净化车间的关键区域(如光刻、晶圆加工)洁净度需达到ISO 3级或更高,即每立方米空气中≥0.1微米颗粒物数量不超过10个。

从温湿度来说,半导体净化车间内的温度需稳定在22℃±2℃范围内,相对湿度控制在45%±5%RH(光刻区需更严格至±1%RH)。如果半导体净化车间内温度过高,容易引起热膨胀从而影响精密设备;如果半导体净化车间内的湿度过低会产生静电,过高可能会导致金属腐蚀。

从人员和物料管控来说,在进入半导体净化车间,人员需要经过风淋,还需要穿戴好无尘服、无尘鞋,禁止携带毛发脱落物和化妆品等;物料也需要通过风淋设备如传递窗或者货淋室后,才可进入半导体净化车间内,避免污染物进入到净化车间内。

以上内容仅供大家参考,具体选择什么洁净等级,如何规划半导体净化车间需要依据客户的具体需求,德信致远净化车间厂家可免费提供咨询方案等。



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